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含有硝基咪唑的皮膚病外用藥

醫(yī)藥數(shù)據(jù)庫中心 藥學論壇 株式會社昭榮/西牟田西住;西牟田和弘
公開(公告)號 CN1304001C  
公開(公告)日 2007.03.14  
申請(專利)號 CN00810368.2  
申請日期 2000.07.14  
專利名稱 含有硝基咪唑的皮膚病外用藥  
主分類號 A61K31/4164(2006.01)I  
分類號 A61K31/4164(2006.01)I;A61P17/00(2006.01)I  
分案原申請?zhí)?  
優(yōu)先權(quán) 1999.7.16 JP 234496/99;1999.7.21 JP 206508/99;1999.9.24 JP 271077/99;1999.9.28 JP 312840/99;2000.1.14 JP 42012/00;2000.2.4 JP 67746/00  
申請(專利權(quán))人 株式會社昭榮  
發(fā)明(設(shè)計)人 西牟田西住;西牟田和弘  
地址 日本福岡縣福岡市  
頒證日  
國際申請 2000-07-14 PCT/JP2000/004728  
進入國家日期 2002.01.14  
專利代理機構(gòu) 中國專利代理(香港)有限公司  
代理人 鐘守期  
國省代碼 日本;JP  
主權(quán)項 一種組合物在制備治療或預防異位性皮炎的外用藥物中的應用,所述組合物含有作為硝基咪唑衍生物的下述通式(I)所示化合物、其藥學上可接受的鹽或其酯作為有效成分:式中R1、R3和R4互相獨立,可以相同或不同,表示氫原子、硝基、低級烷基、被至少1個選自<取代基組α>和<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的低級烷基、低級鏈烯基、或者被至少1個選自<取代基組α>和<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的低級鏈烯基;R2表示氫原子、低級烷基、被至少1個選自<取代基組α>和<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的低級烷基、低級鏈烯基、或者被至少1個選自<取代基組α>和<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的低級鏈烯基,條件是R1、R3和R4中任一個為硝基,<取代基組α>低級烷氧基、被至少1個選自<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的低級烷氧基、低級烷基羰基氧基、被至少1個選自<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的低級烷基羰基氧基、低級烷基磺;⒈恢辽1個選自<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的低級烷基磺;h(huán)烷基、被至少1個選自<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的環(huán)烷基、雜芳基、被至少1個選自<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的雜芳基、芳基以及被至少1個選自<取代基組β>的相同或不同的取代基所取代的芳基,<取代基組β>羥基、巰基、鹵原子、氨基、低級烷基氨基、低級烷氧基、低級鏈烯基、氰基、羧基、氨基甲酰氧基、羧基酰胺基、硫代羧基酰胺基和嗎啉基。  
摘要 含有下述通式(I)所示硝基咪唑衍生物的皮膚病用外用藥,式中R1、R3和R4可以相同或不同,表示氫原子、硝基、低級烷基、被取代的低級烷基、低級鏈烯基或被取代的低級鏈烯基;R2表示氫原子、低級烷基、被取代的低級烷基、低級鏈烯基、被取代的低級鏈烯基,條件是R1、R3和R4中任一個為硝基。  
國際公布 2001-01-25 WO2001/005400 日  
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