公開(公告)號
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CN100366240C
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公開(公告)日
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2008.02.06
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申請(專利)號
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CN200480012391.3
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申請日期
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2004.05.07
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專利名稱
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紫外線屏蔽性貼劑
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主分類號
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A61K9/70(2006.01)I
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分類號
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A61K9/70(2006.01)I;A61K47/22(2006.01)I;A61K47/32(2006.01)I;A61K45/00(2006.01)I;A61K31/192(2006.01)I;A61P29/00(2006.01)I
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分案原申請?zhí)? |
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優(yōu)先權(quán)
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2003.5.7 JP 128934/2003
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申請(專利權(quán))人
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久光制藥株式會社
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發(fā)明(設(shè)計)人
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橋本好明;高田恭憲;鶴田清美
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地址
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日本佐賀縣
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頒證日
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國際申請
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2004-05-07 PCT/JP2004/006024
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進(jìn)入國家日期
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2005.11.07
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專利代理機(jī)構(gòu)
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永新專利商標(biāo)代理有限公司
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代理人
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陳建全
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國省代碼
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日本;JP
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主權(quán)項
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一種貼劑,其包含聚酯類支持體和在該聚酯類支持體的一面上設(shè)置的含有非甾體類抗炎藥物的粘合劑層,其中所述支持體含有以通式(1)所示的羥基苯基苯并三唑衍生物, 式中,R1和R2可以相同或不同,是氫或C1~C4的烷基。
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摘要
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本發(fā)明的目的在于提供即使在直射太陽光線時,藥物也不會光分解,且充分顯示藥效,同時制劑的物性和安全性優(yōu)異的貼劑。本發(fā)明提供一種貼劑,其包含聚酯類支持體和在該聚酯類支持體的一面上設(shè)置的含有非甾體類抗炎藥物(NSAID)的粘合劑層,其中所述支持體含有以通式(1)所示的羥基苯基苯并三唑衍生物,式中,R1和R2可以相同或不同,是氫或C1~C8的烷基,X是鹵原子。
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國際公布
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2004-11-18 WO2004/098575 日
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