光學(xué)純R－(＋)－奧美拉唑制劑的制備方法
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公開(公告)號(hào)
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CN1273464C
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公開(公告)日
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2006.09.06
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申請(qǐng)(專利)號(hào)
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CN02151291.4
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申請(qǐng)日期
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2002.12.12
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專利名稱
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光學(xué)純R－（＋)－奧美拉唑制劑的制備方法
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主分類號(hào)
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C07D401/06(2006.01)I
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分類號(hào)
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C07D401/06(2006.01)I;A61K31/4439(2006.01)I;A61P1/04(2006.01)I;C07D211/94(2006.01)N;C07D233/64(2006.01)N
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分案原申請(qǐng)?zhí)? |
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優(yōu)先權(quán)
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申請(qǐng)(專利權(quán))人
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常州市第四制藥廠有限公司
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發(fā)明(設(shè)計(jì))人
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嚴(yán)益民;屠永銳;李曉強(qiáng)
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地址
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213004江蘇省常州市南郊梅龍壩
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頒證日
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國際申請(qǐng)
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進(jìn)入國家日期
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專利代理機(jī)構(gòu)
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上海新天專利代理有限公司
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代理人
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王 巍
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國省代碼
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江蘇;32
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主權(quán)項(xiàng)
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一種含光學(xué)純R-(+)-奧美拉唑制劑的制備方法，其特征在于在制備中加入堿性物質(zhì)、0.1-1％的抗氧化劑；在≤30℃條件下制粒、包衣，采用真空氮?dú)饬骰蚨栊詺饬骷案稍飫┑姆椒ㄟM(jìn)行干燥；在制備過程中控制水分＜0.5％。
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摘要
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本發(fā)明屬藥物制劑技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明提供了含高度光學(xué)純S-(-)-和R-(+)-奧美拉唑制劑及制備方法。本發(fā)明在處方中加入合適的堿性物質(zhì)，如氫氧化鈉、氫氧化鎂、磷酸鈉、碳酸鈉等以保持pH≥9條件；加入一定量的穩(wěn)定劑，如亞硫酸鈉、硫代硫酸鈉等；通過特有的制備方法如采用惰性氣體造粒、包衣、干燥等；使得制劑在加工和儲(chǔ)運(yùn)過程中保持外觀性狀和光學(xué)純度相對(duì)穩(wěn)定。本發(fā)明制備的各種制劑如片劑、膠囊、注射劑等更適合通過口服和非腸道給藥而達(dá)到采用本活性成分治療的目的。本發(fā)明工藝簡(jiǎn)單，產(chǎn)品穩(wěn)定性好，成品率高；方法中使用的溶劑無毒性，適合工業(yè)化生產(chǎn)。
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國際公布
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