| 公開(公告)號(hào) | CN1890236A |
| 公開(公告)日 | 2007.01.03 |
| 申請(qǐng)(專利)號(hào) | CN200480036326.4 |
| 申請(qǐng)日期 | 2004.11.29 |
| 專利名稱 | 新型噻唑衍生物 |
| 主分類號(hào) | C07D417/06(2006.01)I |
| 分類號(hào) | C07D417/06(2006.01)I;C07D277/56(2006.01)I;A61K31/426(2006.01)I;A61K31/427(2006.01)I;A61P25/32(2006.01)I;A61P25/34(2006.01)I;A61P3/04(2006.01)I |
| 分案原申請(qǐng)?zhí)? | |
| 優(yōu)先權(quán) | 2003.12.8 EP 03104584.2 |
| 申請(qǐng)(專利權(quán))人 | 霍夫曼-拉羅奇有限公司 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人 | M·H·內(nèi)特科文;S·勒韋爾 |
| 地址 | 瑞士巴塞爾 |
| 頒證日 | |
| 國(guó)際申請(qǐng) | 2004-11-29 PCT/EP2004/013517 |
| 進(jìn)入國(guó)家日期 | 2006.06.06 |
| 專利代理機(jī)構(gòu) | 中科專利商標(biāo)代理有限責(zé)任公司 |
| 代理人 | 王 旭 |
| 國(guó)省代碼 | 瑞士;CH |
| 主權(quán)項(xiàng) | 式(I)的化合物或其藥用鹽， 其中 R1是低級(jí)烷氧基，低級(jí)烷基氨基-低級(jí)烷氧基，或-N(Ra)Rb； Ra是氫，低級(jí)烷基，氨基甲�；�-低級(jí)烷基，羥基-低級(jí)烷基，二-羥基低級(jí)烷基，低級(jí)炔基，低級(jí)烷氧基，低級(jí)烷氧基-低級(jí)烷基，二-低級(jí)烷基氨基-低級(jí)烷基，環(huán)烷基；或 Ra是苯基-低級(jí)烷基殘基，其中所述苯基部分可以任選地被低級(jí)烷基、低級(jí)烷氧基或鹵素一-、二-或三-取代；或 Ra是在環(huán)中含有一個(gè)或兩個(gè)氮原子的5-或6-元雜芳環(huán)，所述雜芳環(huán)通過低級(jí)亞烷基與該分子的其余部分連接；或 Ra是任選地含有一個(gè)或兩個(gè)雜原子的5-，6-或7-元飽和雜環(huán)，所述雜原子選自氮、氧和硫，所述雜環(huán)任選地獨(dú)立地被低級(jí)烷基一-、二-、或三-取代； Rb是氫、低級(jí)烷基或低級(jí)烷氧基-低級(jí)烷基；或 Ra和Rb與它們連接的氮原子一起形成任選地含有另外的雜原子的4-、5-或6-元飽和或不飽和雜環(huán)，所述雜原子選自氮、氧和硫，所述雜環(huán)任選地獨(dú)立地被低級(jí)烷基，羥基，羥基-低級(jí)烷基，低級(jí)烷氧基，低級(jí)烷氧基-低級(jí)烷基，氰基，鹵素，苯基和/或芐基一-，二-，或三-取代； R2是氫或低級(jí)烷基； R3是獨(dú)立地被低級(jí)烷氧基、鹵素或全氟-低級(jí)烷氧基一-、二-或三-取代的苯基；且 R4是在環(huán)中任選地含有一個(gè)或兩個(gè)氮原子的單環(huán)芳環(huán)，所述環(huán)獨(dú)立地被低級(jí)烷氧基、鹵素或全氟-低級(jí)烷氧基一-、二-或三-取代。 |
| 摘要 | 本發(fā)明涉及用作治療活性物質(zhì)的式(I)的化合物及其藥用鹽，其中R1，R2，R3和R4如說明書和權(quán)利要求中所定義。這些化合物有效用于治療和/或預(yù)防與CB1受體的調(diào)節(jié)相關(guān)的疾病。 |
| 國(guó)際公布 | 2005-06-30 WO2005/058887 英 |
